用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結構、耐化學(xué)和耐溫性、結合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應性氣體（例如氮氣或含碳氣體）；之后形成含金屬蒸氣的復合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

在熱鍍鋼鐵制件時(shí)，鋅液面在430℃下鍍層表面會(huì )出現羽毛狀花斑和細小難看的白斑，含錫、鉛的合金添加量一旦達到0.5%時(shí)，就會(huì )出現鋅花，xin灰明顯增多。

鉛和錫含量過(guò)高時(shí)在鍍鋅層冷卻過(guò)程中極易形成粗大的結晶和出現龜裂紋現象，影響鋅層的表面光滑度和耐腐蝕性能。

晶間腐蝕對雜質(zhì)鉛zui敏感，鉛量達到0.02%就會(huì )出現晶間腐蝕，在鍍層中沿晶界po裂而失去附著(zhù)力，甚至表面會(huì )出現黃豆粒大小的氣泡。在應用鋅鋁合金或多元合金時(shí)要了解鉛、錫、鋁的含量，決定是否在鋅液中添加。